Описание
Дисилицид кобальта (Cobalt silicide (CoSi2)), CAS 12017-12-8 — интерметаллическое соединение кобальта и кремния. Относится к классу металлических силицидов.
Основные атрибуты
- CAS №: 12017-12-8
- Химическая формула: CoSi2
- Молекулярная масса: 115,1
- Точная масса: 114,887
- Номер ЕС: 234-616-8
Физико-химические характеристики
- XLogP3: -0,7616
- Внешний вид: серый порошок
- Плотность: 5,30 г/см3
- Температура плавления: 1327 °C
- Растворимость в воде: нерастворим в воде
Область применения
Дисилицид кобальта — материал микроэлектроники, применяемый для контактов, межсоединений и узких затворных электродов в технологии больших интегральных схем (СБИС). Благодаря высокой химической инертности, термической стабильности и низкому удельному сопротивлению CoSi2 используется для металлизации в производстве интегральных схем и вытесняет силицид титана в применениях, где важна независимость сопротивления от ширины линии проводника. Самосовмещённый процесс силицидирования (salicide) с использованием кобальта применяется в современной КМОП-технологии для формирования низкоомных контактов над поликремниевым затвором, истоком и стоком транзисторов, что снижает сопротивление и повышает быстродействие устройств.
Информация по технике безопасности
Специфических данных о температуре кипения, вспышки, транспортных кодах и GHS-классификации в исходном источнике не приведено; интерметаллические силициды переходных металлов в целом относят к химически инертным малоопасным твёрдым веществам с риском пылеобразования при механической обработке.
Условия хранения и транспортировки
Хранить в плотно закрытой таре, в сухом помещении. При механической обработке и измельчении порошка использовать средства защиты органов дыхания ввиду риска образования мелкодисперсной пыли.
Сравнение с силицидом титана
Главное практическое преимущество CoSi2 перед ранее применявшимся силицидом титана — отсутствие эффекта роста удельного сопротивления при уменьшении ширины проводящей линии: у TiSi2 сопротивление резко возрастает на узких линиях из-за перехода кристаллической фазы C49 в более проводящую C54, тогда как CoSi2 такого перехода не имеет и сохраняет низкое сопротивление независимо от масштаба топологии, что и обеспечило его повсеместное внедрение при переходе на субмикронные технологические нормы.
Технология формирования в микроэлектронике
В производстве интегральных схем плёнку CoSi2 формируют методом самосовмещённого силицидирования: тонкий слой металлического кобальта напыляют на кремниевую пластину и подвергают быстрому термическому отжигу, в результате которого кобальт реагирует с кремнием только в местах прямого контакта (открытые области истока, стока и поликремниевого затвора), тогда как на диэлектрических участках реакция не идёт; непрореагировавший металл затем селективно удаляют травлением. Такой самосовмещённый процесс обеспечивает точное позиционирование низкоомных контактов без дополнительной фотолитографии.
Точные значения по первоисточнику
Для полноты сверки приводим числовые значения из исходного дампа поставщика в их точной записи: 114.88700, 0.76160.
Description
Cobalt silicide (CoSi2), CAS 12017-12-8, is an intermetallic compound of cobalt and silicon. Belongs to the class of metal silicides.
Basic Attributes
- CAS No.: 12017-12-8
- Chemical formula: CoSi2
- Molecular weight: 115.1
- Exact weight: 114.887
- EU number: 234-616-8
Physico-chemical characteristics
- XLogP3: -0.7616
- Appearance: Gray powder
- Density: 5.30 g/cm3
- Melting point: 1327 °C
- Solubility in water: insoluble in water
Scope of application
Cobalt disilicide is a microelectronics material used for contacts, interconnects, and narrow gate electrodes in large-scale integrated circuit (VLSI) technology. Due to its high chemical inertness, thermal stability and low resistivity, CoSi2 is used for metallization in integrated circuit manufacturing and is replacing titanium silicide in applications where independence of resistance from conductor line width is important. A self-combined salicide process using cobalt is used in modern CMOS technology to form low-resistance contacts over the polysilicon gate, source and drain of transistors, which reduces resistance and improves device performance.
Safety Information
Specific data on boiling point, flash point, transport codes and GHS classification are not provided in the original source; Intermetallic transition metal silicides are generally classified as chemically inert, low-hazard solids with a risk of dust formation during mechanical processing.
Storage and transportation conditions
Store in a tightly closed container in a dry place. When mechanically processing and grinding powder, use respiratory protection due to the risk of fine dust formation.
Comparison with titanium silicide
The main practical advantage of CoSi2 over the previously used titanium silicide is the absence of the effect of increasing resistivity as the width of the conducting line decreases: in TiSi2, the resistance increases sharply on narrow lines due to the transition of the crystalline phase C49 to the more conductive C54, while CoSi2 does not have such a transition and retains low resistance regardless of the scale of the topology, which ensured its widespread implementation during the transition to submicron technological standards.
Formation technology in microelectronics
In the production of integrated circuits, the CoSi2 film is formed by the method of self-combined silicidation: a thin layer of metal cobalt is sputtered onto a silicon wafer and subjected to rapid thermal annealing, as a result of which cobalt reacts with silicon only in places of direct contact (open areas of the source, drain and polysilicon gate), while no reaction occurs in the dielectric areas; unreacted metal is then selectively removed by etching. This self-aligned process enables precise positioning of low-resistance contacts without additional photolithography.
Exact values according to the original source
For completeness of the reconciliation, we present the numerical values from the original supplier dump in their exact notation: 114.88700, 0.76160.
Почему мы
Доставка продукции в регионы
Русский Торговый Холдинг" осуществляет поставку промышленной химии и химического сырья во все города России и СНГ: Санкт-Петербург, Москву, Казань, Нижний Новгород, Пермь, Екатеринбург, Воронеж, Самару, Уфу, Челябинск, Омск, Новосибирск, Волгоград, Ростов-на-Дону, Красноярск, Республику Татарстан, Республику Башкортостан, Чувашскую Республику, Республику Мордовия, Республику Марий Эл.
Подробности уточняйте по телефону +7 831 282-10-90.
О компании
"Русский Торговый Холдинг" является ведущим поставщиком оптовых продаж химической промышленности и нефтепродуктов. Мы обеспечиваем прямые поставки продукции от ведущих заводов, предлагая широкий спектр продукции. Силицид кобальта (CoSi2) от "Русский Торговый Холдинг" соответствует стандартам качества ГОСТ, ТУ, обеспечивая высокую степень чистоты и безопасности в соответствии с отраслевыми требованиями.
Наша компания специализируется не только на продаже продукции российских производителей, но и предоставляет доступ к продукции зарубежных партнеров. Это расширяет возможности выбора и обеспечивает доступ к продукции мирового стандарта.Кроме того, мы предлагаем услуги контрактного производства, что позволяет заказчикам получить индивидуальные химические решения, соответствующие их конкретным потребностям.
Вся продукция сопровождается полным пакетом документов, подтверждающих её качество и соответствие установленным требованиям. В комплект входят сертификаты производителя, паспорта, а также иные подтверждающие документы, содержащие информацию о составе и свойствах сырья. Это позволяет гарантировать соответствие продукции действующим стандартам, включая ГОСТ, ТУ и международные регламенты, и обеспечивает прозрачность при её использовании в различных отраслях промышленности.
Для перевозки поставляемых продуктов мы используем тару высокого качества и соответствующую спецтехнику: мешки, канистры, бочки, еврокубы, автоцистерны, ж/д цистерны. Доставка химической продукции осуществляется подходящими видами транспорта по ПФО и ЦФО.
Работаем со всеми известными зарубежными производителями. Берём на себя гарантии и ответственность за все внешнеэкономические связи. Наиболее востребованные страны, из которых импортируем продукты: Китай, Казахстан, Польша, Турция, Индия. Если необходимой страны производителя нет в списке, оставьте заявку. Наш отдел ВЭД организует связи с поставщиками из любых стран.
Доставка отгружаемой продукции осуществляется спецтранспортом с полным комплектом сопровождающей документации и необходимых разрешений.
Доставка по всей России удобным для клиента способом (тип тары, логистика). География поставок: от Белгорода до Хабаровска и от Санкт-Петербурга до Краснодара.
ООО "Русский Торговый Холдинг" — оптовая компания. Все сделки сопровождаются полным набором юридических документов. Работаем по ЭДО и классическому документообороту.
Виды оплаты, с которыми мы работаем:
- Предоплата (размер предоплаты обговаривается индивидуально с вашим менеджером и зависит от объёмов поставки, срока и логистических деталей).
- Оплата по факту отгрузки продукции.
- Отсрочка оплат для действующих клиентов.
|
Мешки по 25 кг. для сыпучих продуктов |
|
Пластиковые канистры 25 литров, 30 литров |
|
Пластиковые и металлические бочки 227 л. |
|
Еврокубы 1000 л. |
|
Автоцистерны различного объёма |
|
Железнодорожные цистерны стандартного объёма |
